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手术室净化工程中的注意事项

1净化系统

室内的空气净化系统可分为水平层流、垂直层流和乱流。气流形式的选择可参照惯例，二则取决于房间的工作参数。

2洁净度与换气次数

房间的洁净度取决于单位时间的换气次数，因此要全1面考虑房间的工作性质、以及生产工艺要求，再决定净化系统的技术参数。

3净化工程结构

为了保证气流几乎不受干扰，就必须进行结构设计，必要的谨慎可以防止房间里任何地方的灰尘积累。

净化车间的净化方式都包括哪些呢？

水洗法：利用虹吸以及离心原理，将混合于水的净化剂通过虹吸原理吸入其电机底座的同轴离心涡轮下部的吸管中，通过交流罩极电机高速旋转，再利用离心原理，将混合于水的净化剂喷在瓶胆内形成一层水膜，将空气中的灰尘以及细菌吸入水中，同时将经过净化的空气吹入室内，快速有效地去除室内的有毒1素生物、灰尘、烟味、臭味、病毒等，并产生大量的新鲜氧气。前室在平面布置上一般采用单机单室，辅机室可设在非洁净区，检修门设在走廊一侧。

 1000级 一般只对尘埃浓度做要求，用于光学器件，仪器等高精仪器等

10000级，用于液压设备的生产，和一些食品饮料的生产。

100000级，这个级别比较的低，对净化度要求不是很高，主要在印刷厂，包装厂等。1级：主要应用于电子工业，这是目前对净化工程要求zui高的环境，集成电路要求的精度要达到亚微米。随着微电子工业技术领域的突飞猛进，对洁净室的要求越来越高。及时生产间内的例子直径仅有1微米，也会使产品寿命受到影响。现在国内的相关企业很多，所以净化工程企业之间的竞争也很激烈，因为科技的发展使得市场对净化工程的要求高了起来，从以前的价格竞争变成了现在的价值竞争。所以相关的净化工程企业应该提高自身的自主研发能力，不断的发展创新，才能适应这个竞争激烈的市场。在实施药厂净化车间时，一般从建筑平面布置、食品车间结构、车间地面、通风孔器净化设备、照明等几个方面来考虑。

 直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产zui佳温度范围为35—45%。现在我们国家的经济科技在发展，同时带动了社会各行各业在告诉发展中。以净化工程这个行业为例，在目前呈现一片喜人的发展态势。净化车间调节控制空气至合适的温度和湿度，为生产人员提供舒适的生产劳动环境，也是药品生产***的需要。