黄山手术室净化工程-安徽梦净源|正规团队(图)

 10级：主要用于带宽小于2微米的半导体工业。其空气净化要求仅次于1级，并且我国半导体技术也在发展之中，在未来对洁净度的要求更加高。直径100 um的硅片，温度上升1度，手术室净化工程，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。净化工程在设计时，无论是新建还是重新改造的净化车间，都一定依照国家相关标准、规范进行。

具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。压力差的维持依靠新风量，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。所以压力差的物理意义就是漏泄（或渗透）风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。净化工程的步的关键是设计，工程设计水平的好与坏将直接关系到整个工程之后的施工，还会影响净化工程今后的稳定性、可靠性、经济性。

车间净化工程涉及的行业

净化工程是一个应用行业非常广泛的基础性配套产业，目前级别的当属航天航空的航空仓，基本是属于1级，属于特殊领域，面积相对较小。

另外则主要在电子信息、半导体、光电子、精密制造、食品加工、卫生、生物工程、汽车喷涂等众多行业应用广泛。

自山东鲁抗大量偷排污水被媒体曝光后，制药企业生产环境的问题一直受到普遍关注，特别是发酵类、化学合成类制药企业，由于污染物排量大，成为环境监管的重点。

这就显现出建设无尘净化车间的重要性了。